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ISSM2024「Best Paper Award」受賞のお知らせ

　2024 年12 月9 日～10 日に、KFC ホール（東京・両国）で開催された第 30 回半導体生産技術国際シンポジウム「ISSM2024」において、当社開発センター 蔦野恭平の「半導体シリコン洗浄用超純水中の極微量金属不純物の半導体シリコン表面への吸着挙動に関する研究」が、 Best Paper Awardを受賞しましたのでお知らせいたします。

●受賞タイトル
　Evaluation of Metal Contamination Behavior on Silicon Dioxide Surface Rinsed with Deionized Water Containing Ultra-Trace Metal in Single-Wafer Cleaning Process

●受賞者
　Organo Corporation   Kyohei Tsutano
　Tohoku University      Dr. Takezo Mawaki
　　　　　　　　　　   Dr. Yasuyuki Shミラクルカジノ クレジットカードai
　　　　　　　　　　   Dr. Rihito Kuroda

　これからも超純水システムの技術に磨きをかけ、半導体業界と社会の発展に貢献してまいります。

※ 半導体生産技術国際シンポジウム「ISSM」について
　 ISSM は 、1992 年から半導体生産技術に関する重要な国際会議として、半導体製造の発展に寄与しています。　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

以上

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